深圳市富明溅射靶材有限公司
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型 号 GX-1050A GX-800A GX-900A GX1200A 镀膜室尺寸 Ф10501250,304不锈钢。 Ф8001000 Ф9001050 Ф12001250 镀膜腔内尺寸 工装夹具支架离地1680mm,适合人体工学的操作高度。 工装夹具支架离地1468mm,适合人体工学的操作高度。 工装夹具支架离地1510mm[详细]
薄膜太阳能工业用靶材 Targets For Solar Industry 品名 纯度 形状 最大尺寸 铜 (Cu) 靶 3N7 平面靶 1500x300mm 铜铟 (CuIn) 合金靶 3N5 平面靶 300x200mm 铜镓 (CuGa) 合金靶 3N5 平面靶 300x200mm 铜铟镓 (CuInGa) 合金靶 3N5 平面靶 300x200mm 铜硒 (CuSe[详细]
离子镀装饰发朦缺陷现象与成因及对策浅析 袁镇海 (广州有色金属研究院, 广州510651) 摘 要:离子镀装饰膜生产在镀层表面局部经常出现一层浅白色似云雾状物,称为发朦或朦 白。这种缺陷是镀层表面存在密集分布的小颗粒对光漫反射干扰了原表面有规律的反射光所[详细]
建筑、汽车玻璃 GW可以为建筑与汽车玻璃工业用热反射玻璃和低辐射玻璃(LOW-E)提供各功能层所需的溅射靶材,适用于如VON ARDENNE、LEYBOLD等常规镀膜系统,规格可根据客户需要提供。 靶材包括:铌(Nb),钛(Ti),锡(Sn),硅(Si),铬(Cr),锌(Zn)[详细]
薄膜太阳能、光伏光热工业 GW所提供的靶材具有高纯、高密度、组织均匀、晶粒细,加工精度高等优点。 靶材包括:氧化锌(i-ZnO),氧化锌铝(AZO),铜铟(CuIn),铜镓(CuGa),铜铟镓(CuInGa),铜铟镓硒(CIGS),钼(Mo),铝(Al),IGZO,不锈钢,铬[详细]
真空镀膜和光学镀膜区别 真空镀膜 主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力[详细]
磁控溅射原理:在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,溅射靶材在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),永久磁铁在 靶材 料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁[详细]
问题:反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜, 靶材 是两英寸的,溅射气体为氩气,反应气体为N2,功率300W,射频电源,沉积了两个小时,完后取出靶一看出现了标题中所述的现象,是靶中毒还是其他什么原因,但为什么只有半边出现? 原因分析1:可能与射频电源的引入[详细]