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  • 溅射靶材磁控溅射原理2016-02-29

    溅射 靶材 磁控溅射原理: 在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),永久磁铁在 靶材 料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁[详细]

  • 高纯铝溅射靶材行业的发展情况2016-02-29

    高纯铝溅射 靶材 行业的发展情况。随着电子新材料行业的快速发展,以高纯铝为基础的电子新材料产品(包括靶材)需求将保持高速增长。十一五期间,我国国家高技术研究发展计划(863计划)新材料技术领域大尺寸超高纯铝靶材的制造技术重点项目申请指南要求达到的目[详细]

  • 溅射靶材的应用领域2016-02-29

    溅射 靶材 主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制 器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。 信息存储产业:随着IT 产业的不断发展,世界对记录介质的需 求量越来越[详细]

  • 磁控溅射靶材行业的发展规律2016-02-29

    如果 靶材 是磁性材料,磁力线被靶材屏蔽,磁力线难以穿透靶材在靶材表面上方形成磁场,磁控的作用将大大降低。因此,溅射磁性材料时,一方面要求磁控靶的磁场要强一些,另一方面靶材也要制备的薄一些,以便磁力线能穿过靶材,在靶面上方产生磁控作用。 磁控[详细]

  • 讲解溅射靶材脱钛剂的效果2016-02-29

    靶材 的应用范围广阔,市场发展空间巨大,脱钛剂结合PVD镀膜的特点而生产的一种高效环保无毒退膜药水。 脱钛剂由于具有无毒﹑环保的特点,所以绝不伤害电镀保护漆与基体,并迅速剥离IP涂层,起到了良好的分色效果。它主要是针对离子装饰镀行业的以Ti﹑TiN﹑T[详细]

  • ITO靶材行业未来发展市场分析2016-02-29

    ITO材料是一种n型半导体材料,该种材料包括ITO粉末、 靶材 、导电浆料及ITO透明导电薄膜。其主要应用分为:平板显示器(FPD)产业,如液晶显示器(LCD)、薄膜晶体管显示器(TFT-LCD)、电激发光显示器(EL)、场发射显示器(FED)、电致有机发光平面显示器(OELD)、等[详细]

  • 讲解溅射靶材中频磁控溅射的知识2016-02-29

    磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电子交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出溅射 靶材 。在近几十年的发展中,大家逐渐[详细]

  • 磁控溅射靶材的种类介绍2016-02-29

    溅射 靶材 :金属溅射镀膜靶材,合金溅射镀膜靶材,陶瓷溅射镀膜靶材,硼化物陶瓷溅射靶材,碳化物陶瓷溅射靶材,氟化物陶瓷溅射靶材 ,氮化物陶瓷溅射靶材 ,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷溅射靶材 ,硅化物陶瓷溅射靶材 ,硫化物陶瓷溅射靶材 ,碲化物陶瓷溅[详细]

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