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  • 磁控溅射靶材的原理介绍2016-02-29

    磁控溅射原理:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击 靶材 ,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中[详细]

  • 稀土金属靶材市场的发展情况2016-02-29

    稀土金属 靶材 市场的发展情况分析,希望对大家有所帮助。我国稀土金属靶材市场发展迅速,产品产出持续扩张,国家产业政策鼓励稀土金属靶材产业向高技术产品方向发展,国内企业新增投资项目投资逐渐增多。投资者对稀土金属靶材市场的关注越来越密切,这使得[详细]

  • ITO靶材基本知识讲解2016-02-29

    ITO材料是一种n型半导体材料,该种材料包括ITO粉末、 靶材 、导电浆料及ITO透明导电薄膜。其主要应用分为:平板显示器(FPD)产业,如液晶显示器(LCD)、薄膜晶体管显示器(TFT-LCD)、电激发光显示器(EL)、场发射显示器(FED)、电致有机发光平面显示器(OELD)、等[详细]

  • 溅射靶材二极溅射装置简介2016-02-29

    溅射 靶材 二极溅射装置简介:磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,溅射靶材较之较早点的蒸发镀膜方式,其很多方面的优势相当明显。作为一项已经发展的较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多领域。 二极溅射装置:它是一对阴极和阳极组成的冷阴极[详细]

  • 未来ITO靶材发展趋势2016-02-29

    未来ITO 靶材 发展大致有以下的趋势: 1.降低电阻率。随着LCD愈来愈精细化发展的趋向,以及它的驱动程序不同,需要更小电阻率的透明导电膜。 2.高密度化。靶材密度的改善直接带来的益处主要表现在减少黑化和降低电阻率方面。靶材若为低密度时,有效溅射表面[详细]

  • ITO靶材供应以日本为主2016-02-29

    ITO材料是一种n型半导体材料,该种材料包括ITO粉末、 靶材 、导电浆料及ITO透明导电薄膜。其主要应用分为:平板显示器(FPD)产业,如液晶显示器(LCD)、薄膜晶体管显示器(TFT-LCD)、电激发光显示器(EL)、场发射显示器(FED)、电致有机发光平面显示器(OELD)、等[详细]

  • 我国ITO靶材行业的发展情况2016-02-29

    前国内ITO 靶材 需求量约150吨。随着中国经济的发展和全球产业分工的深化,日本、我国台湾地区、韩国的许多平板显示器制造企业都将他们的制造基地移到中国大陆,未来中国大陆将成为全球最大的液晶显示器制造中心。预计2010国内ITO靶材需求量将超过500吨。 IT[详细]

  • 靶材的主要性能要求介绍2016-02-29

    靶材 的市场广阔,应用范围大,未来发展较大,为了帮助大家更多的了解靶材的性能,下面我们就为大家简单的介绍一下靶材的主要性能要求,希望对大家有所帮助。 纯度:纯度是 靶材 的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中[详细]

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