深圳市富明溅射靶材有限公司
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靶材的主要性能要求 纯度 纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6, 8发展到12, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um[详细]
2014年6月9-11日 广州保利世贸博览馆（琶洲） 主办单位：广东省真空学会 香港金属表面处理学会 广州市雅斯展览有限公司 支持单位：台湾真空学会 台湾镀膜科技协会 各省市真空学会 广东省电子商会 中国光学学会光学薄膜专业委员会 广东省光学学会 中欧企业科[详细]
国内溅射靶材发展与应用 20 世纪90 年代以来靶材已蓬勃发展成为一个专业化产业，中国及亚太地区靶材的需求占有 世界70%以上的市场份额。大量不同的沉积技术用来沉积生长各种薄膜 ，而靶材是制作薄膜的关 键，品质的好坏对薄膜的意义重大。目前高端品质靶材主[详细]
引 言 氮化铝(AlN)是一种性能优良的宽能隙直接带隙结构Ⅲ-V 族化合物半导体材料[1]。它具有很多 优异的物理、化学以及机械性能，如：高热导率（300W/(mK)）、高禁带宽度（6.2eV）、高击穿 场强（14106V/cm）[2]以及良好的光学和力学性能[3]，且与Si、GaAs 等[详细]
溅射靶材的分类 金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材 ，氮化物陶瓷溅射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物 陶瓷溅射靶材 ，硅化物陶瓷溅射靶材 ，硫化物陶瓷溅射靶材 ，碲化物陶[详细]